fa تاثیر زمان رشد ولتاژ اعمال شده بر دیوار و فشار پلاسما بر روی تحول زمانی یک پلاسمای گرم برخوردی در فرایند کاشت یون به روش فروبردن در پلاسما (PIII) نانوفیزیک Special پژوهشي Research <span style="line-height:150%"><span style="direction:rtl"><span style="unicode-bidi:embed"><span lang="FA" style="font-size:12.0pt"><span style="line-height:150%"><span b="" nazanin="" style="font-family:">تشکیل و تحول زمانی لایه مرزی پلاسما در فرایند کاشت یون به روش فرو بردن در پلاسما در حضور یک میدان مغنایسی ایستا مورد بررسی قرار می‌گیرد. اعمال یک پالس ولتاژ بالا با یک تابع زمانی رشد نمایی به یک هدف فرورفته در پلاسما، یک بار فضایی مثبت پیرامون آن ایجاد می‌کند که به صورت زمانی توسعه پیدا می‌کند. زمان رشد این تابع و فشار پلاسما، هر دو بر شکل‌گیری و گسترش لایه مرزی پلاسمای مجاور هدف تاثیر می‌گذارد. تغییرات زمانی چگالی جریان و انرژی جنبشی یون، زاویه فرود یون بر روی سطح هدف، همچنین تحول زمانی بار فضایی مثبت و ضخامت لایه مرزی پلاسما به عنوان توابعی از این دو پارامتر، در یک مدل سیالی و به صورت عددی مورد مطالعه واقع می‌گردند. یافته‌های این مطالعه نشان می‌دهند که وابستگی زمانی تمام متغییرهای لایه مرزی پلاسما بازای زمان رشد پالس ولتاژ طولانی‌تر، بیشتر حس می‌شود.</span></span></span></span></span></span> <span style="font-size:11.0pt"><span style="line-height:107%"><span new="" roman="" style="font-family:" times=""><span style="color:black">Formation and temporal evolution of the plasma boundary layer in plasma immersion ion implantation is investigated in the presence of a static magnetic field. Here the ions are not cold and their temperature has been taken into account. By using a negative high-voltage pulse with an exponential ramp function on a target immersed in plasma, a positive space charge is formed and expanded around it. Rise time of the ramp function and pressure of the plasma neutral gas influence the formation and expansion of the plasma boundary layer near the target. The time evolution of the ion current density, ion kinetic energy and ion incident angle as well as the time evolution of the positive space charge and the width of the boundary layer are studied as functions of the neutral gas pressure and the rise time of the exponential ramp function. Our findings show that the time dependency of the variables of the plasma boundary layer is more pronounced for a longer rise time. </span></span></span></span> پلاسمای مغناطیده برخوردی, لایه مرزی پلاسما, کاشت یون, زمان رشد پالس Magnetized collisional plasma, Plasma boundary layer, Ion implantation, Rise time 34 48 http://jmrph.khu.ac.ir/browse.php?a_code=A-10-284-2&slc_lang=fa&sid=1 Mansour Khoram منصور خرم m.khoramabadi@srbiau.ac.ir 10031947532846001351 10031947532846001351 Yes Department of Physics, Bo. C., Islamic Azad University, Borujerd, Iran گروه فیزیک، واحد بروجرد، دانشگاه آزاد اسلامی، بروجرد، ایران Kiomars Yasserian کیومرث یاسریان kiomars.yaserian@kiau.ac.ir 10031947532846001352 10031947532846001352 No Department of Physics, Ka. C., Islamic Azad University, Karaj, Iran دانشگاه آزاد اسلامی، واحد کرج Narges Shahandehgermi نرگس شاهنده گرمی makhoram@gmail.com 10031947532846001353 10031947532846001353 No Karaj Branch, Islamic Azad University دانشگاه آزاد اسلامی، واحد کرج